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RF 스퍼터 공정압력의 변화에 따른 TiO2 박막의 특성
The Characteristics of TiO2 thin films on Working pressure of RF Sputter
- 제목
- RF 스퍼터 공정압력의 변화에 따른 TiO2 박막의 특성
- 제목 (타언어)
- The Characteristics of TiO2 thin films on Working pressure of RF Sputter
- 저자
- 최형욱
- 발행일
- 2009-06-20
- 학회명
- 2009년도 한국전기전자재료학회 하계학술대회
- 개최지
- 창원켄벤션센터
- 개최국가
- 대한민국
- 학회 개최일
- 2009-06-18 ~ 2009-06-20